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霧化石墨乳研磨分散機,石墨乳研磨分散設備采用上海SGN技術,*創意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來GM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質盤、乳化盤)。
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一、產品名稱概述:霧化石墨乳研磨分散機,粒度可控石墨乳分散機,溶劑型石墨乳研磨分散機,顯像管用石墨乳研磨分散機
二、石墨乳的簡介
石墨乳的主要成分是石墨粉(微粉石墨),因其呈乳狀狀態,所以常被稱作石墨乳,根據石墨粉的導電、潤滑、防腐、耐高溫等特點生產的系列石墨乳可廣泛用于導電、電磁屏蔽、抗靜電、鍛造、潤滑、防腐、密封、絲網印刷線路、彩色顯示器件制造等領域,起到導電、抗靜電、防腐、潤滑、密封、屏蔽等作用。
在鑄造領域中,石墨乳用于金屬鍛造的脫模劑,如鋼鍛件、銅鍛件、合金鍛件、鋁鍛件的脫模劑。石墨乳通過噴涂裝置進行霧化,噴涂在模具的鑄造型腔內。
三、石墨乳的分散難點
石墨分散有一部分企業采用超聲波或者高速分散機進行分散處理,但是存在許多弊端。超聲分散難以規?;咚俜稚㈦y以保證漿料的均勻度以及生產效率低。面對這個問題上海SGN研發出研磨式高剪切分散機,將膠體磨和分散機合二為一,先研磨打開二級團聚體,然后瞬間進行分散均質,保證石墨漿料的細化和分散均勻。尤其對于橡膠行業,采用傳統間隙的分散設備無法均勻穩定將石墨分散到液體基體中,必須采用管線式分散設備,以確保物料更充分的剪切、分散。
四、霧化石墨乳加工設備
石墨乳改進型高速膠體磨SGN循環式作業方式的研磨分散機是一款改進型膠體磨,特別適合新材料的研究制備,目前已成功應用于硅硼漿、石墨烯、石墨烯改性材料、碳納米管、光伏材料、光催化研究,研究等多項科研和生產中。
石墨乳粒徑越小,越有利于石墨乳的霧化以及石墨電量的提高,石墨烯研磨分散機
上海SGN在石墨領域的應用成功,為石墨行業的發展提供了設備支持,得到了充分的認可。SGN石墨烯分散設備采用高速研磨分散技術,通過高轉速(可達18000rpm)帶動高精密的磨頭定轉子(通常配GM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質,從而得出超細的顆粒。
五、石墨乳研磨分散機的特點
1、石墨乳研磨分散設備采用上海SGN技術,*創意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來GM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”。
2、SGN研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續運行。而普通分散機很難做到連續長時間的運行,并且普通分散機不能承受高轉速的運行。通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,高線速度的吸料式葉輪提供很強的切割力。
3、 GMSD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。一級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
六、石墨乳研磨分散機選型表
| 標準流量(H2O) | 輸出轉速 | 標準線速度 | 馬達功率 | 進出口尺寸 |
型號 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMSD 2000/4 | 300-1,000 | 14000 | 44 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1,000-1.500 | 10,500 | 44 | 7.5 | DN40 /DN 32 |
GMSD 2000/10 | 3,000 | 7,300 | 44 | 15 | DN50 / DN50 |
GMSD 2000/20 | 8,000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80 /DN 65 |
GMSD 2000/30 | 20,000 | 2,850 | 44 | 75 | DN150 /DN 125 |
GMSD 2000/50 | 40,000 | 2,000 | 44 | 160 | DN200 /DN 150 |
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